硅碳負極CVD間歇式回轉(zhuǎn)爐 還原回轉(zhuǎn)窯 硅片燒結爐
時間：2025-11-14 13:48:25 點擊：95 次
產(chǎn)品名稱：硅碳負極CVD間歇式回轉(zhuǎn)爐 還原回轉(zhuǎn)窯 硅片燒結爐
一、概述
硅碳負極CVD間歇式回轉(zhuǎn)爐 還原回轉(zhuǎn)窯 硅片燒結爐是在特定保護或反應氣氛中，對散狀物料進行連續(xù)動態(tài)熱處理的回轉(zhuǎn)式工業(yè)爐。其核心價值在于實現(xiàn)物料在無氧或可控環(huán)境下均勻、有效地完成燒結、還原等工藝。
二、規(guī)格、型號
型號：BJXG-8-10
爐膽尺寸：高溫區(qū)?200*400mm（直徑x長度）二端計算
有效裝料：≈2L
爐膽材質(zhì)：石英材質(zhì)
使用氣氛：氮氣、2%氫氮氣混合氣
物料形態(tài)：粉料、顆粒料無粘壁狀態(tài)，流動性較好
三、技術參數(shù)
額定功率：≈8KW（實際功率由儀表根據(jù)使用情況自動控制輸出）
電壓：主回路380V+控制回路220V
額定溫度：1000℃
使用溫度：≤1000℃
控制精度：±1℃（恒溫狀態(tài)下）
注：硅碳負極CVD間歇式回轉(zhuǎn)爐 還原回轉(zhuǎn)窯 硅片燒結爐等其他型號規(guī)格可以根據(jù)用戶實際需求設計，價格僅參考，歡迎咨詢詳談：0510-87195028 18888033558 吳經(jīng)理。